专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种石膏抹灰雕刻结构专利类型：实用新型专利
发明人：杨辽豫,余枫,曾昭波,郭纯,史美晨,魏中奇,孙涛,刘舒
妍,罗金兰,刘伟东,苏宁,曹帅帅,栾广东,卢龙龙,王明伟,臧同磊,贺庆巧,秦瑶,顾文华,何佳南
申请号：CN201621257085.2申请日：20161122公开号：CN2063282U公开日：20170714
摘要：一种石膏抹灰雕刻结构，它包括具有施工面的墙体，该墙体外侧涂设有底层石膏抹灰，该底层石膏抹灰的表面凹凸不平；该底层石膏抹灰外侧涂设有雕刻层石膏抹灰，该雕刻层石膏抹灰表面设有与该底层石膏抹灰表面对应的凹凸结构。本实用新型的石膏抹灰雕刻结构除了其健康环保、阻燃隔热性好、粘结力强、操作简单等优势以外，与常规的以表面光滑平整为标准的饰面抹灰工程相比，还具有主题性强、可塑性高、层薄质轻等特点。
申请人：中冶建筑研究总院有限公司,中国京冶工程技术有限公司
地址：100088 北京市海淀区西土城路33号10号楼
国籍：CN
代理机构：北京北新智诚知识产权代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
