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一种磁控溅射靶材结构[实用新型专利]

来源:尔游网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种磁控溅射靶材结构专利类型:实用新型专利发明人:余松霖,林俊杰,覃秦申请号:CN201420003674.2申请日:20140105公开号:CN203715718U公开日:20140716

摘要:本实用新型提供了一种磁控溅射靶材结构,其特征在于:包括背板(3)、靶材(1)、靶材(2),所述的靶材(1)是横截面为上凸形结构的方条形板材,所述的靶材(2)是横截面为下凸形结构的方条形板材;所述的靶材(1)和靶材(2)通过焊接方式紧密拼接在背板(3)上,所述的靶材(1)上凸形边缘和靶材(2)下凸形边缘是相互配合的。本实用新型的有益效果为:新型的靶材拼接结构能有效提高靶材利用率,降低生产成本。

申请人:东莞汇海光电科技实业有限公司

地址:523400 广东省东莞市寮步镇药勒村坤明路3号

国籍:CN

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