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专利名称：一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构专利类型：实用新型专利发明人：李景顺,易镜明申请号：CN200920204040.2申请日：20090820公开号：CN201512578U公开日：20100623
摘要：本实用新型适用于磁控溅射镀膜领域，提供了一种磁控溅射镀膜设备中的靶材结构，所述靶材中间厚、两边薄，并考虑均匀性、平衡加工性与利用率将靶材中间做成平面，两侧做成斜面。与现有技术中的均匀等厚的靶材结构相比，本实用新型增加靶材中间溅射密度高的区域的厚度，同时削减靶材两边将来是多余的部分，采用这种靶材来进行磁控溅射镀膜，靶材利用率高，溅射均匀性好。
申请人：李景顺,信义玻璃工程(东莞)有限公司
地址：523935 广东省东莞市虎门镇路东村信义路信义玻璃工业园
国籍：CN
代理机构：深圳中一专利商标事务所
代理人：张全文
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