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专利名称：电子束描绘系统、方法、程序及直接描绘制造半导
体器件方法
专利类型：发明专利发明人：中杉哲郎
申请号：CN200510063188.5申请日：20050405公开号：CN1681085A公开日：20051012
摘要：本发明提供一种电子束描绘系统，它具备：根据决定的处理顺序使用多个孔径掩模对多个批次按顺序描绘的描绘工具；管理所述多个孔径掩模的孔径管理工具；取得所述多个批次的处理请求的请求取得模块；存储分别与所述多个批次有关的处理步骤的处理步骤存储部；处理时间计算模块，其分别计算出根据所述处理步骤、使用分别与所述批次对应的所述孔径掩模来分别处理所述多个批次的处理时间；和根据所述处理时间决定所述多个批次的处理顺序的处理顺序决定模块。
申请人：株式会社东芝
地址：日本东京都
国籍：JP
代理机构：北京市中咨律师事务所
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