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专利名称：结构化光栅部件、成像系统和制造方法专利类型：发明专利
发明人：G·福格特米尔,D·赫尔梅斯,刘波,A·亚罗申科,S·乌尼
克里希南,J·W·M·雅各布斯
申请号：CN201980042491.7申请日：20191111公开号：CN112513687A公开日：20210316
摘要：本发明涉及一种制造结构化光栅的方法、对应的结构化光栅部件(1)和成像系统。所述方法包括以下步骤：在衬底(20)上提供(110、120、130)催化剂(30)，所述催化剂(20)具有光栅图案；在所述催化剂(30)上生长(140)纳米结构(50)以便基于所述光栅图案来形成壁(52)和沟槽(54)；并且使用X射线吸收材料(70)来填充(160)纳米结构(50)的所述壁(52)之间的所述沟槽(54)。本发明提供一种用于制造结构化光栅的改进的方法和这样的结构化光栅部件(1)，其特别地适合于暗场X射线成像或相衬成像。
申请人：皇家飞利浦有限公司,荷兰应用科学研究会(TNO)
地址：荷兰艾恩德霍芬
国籍：NL
代理机构：永新专利商标代理有限公司
代理人：刘兆君
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