专利名称：抛光组合物专利类型：发明专利
发明人：神谷知秀,横道典孝,大胁寿树申请号：CN200410007656.2申请日：20040226公开号：CN1532245A公开日：20040929
摘要：本发明涉及一种更适合用于抛光磁盘基片表面的抛光组合物。该抛光组合物包括用作研磨剂的二氧化硅、甲磺酸、过氧化氢和水。
申请人：福吉米株式会社
地址：日本爱知县
国籍：JP
代理机构：上海市华诚律师事务所
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